高精密增材制造3D打印是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業(yè)極少能實現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

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更新時間：2024-09-18

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精密加工

高精密增材制造微納增材制造數(shù)字微流控芯片光刻技術

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品牌	摩方精密	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
光學精度	2μm	打印材料	光敏樹脂
打印層厚	5-20μm	最大打印尺寸	50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源	UV?LED(405nm)

一、高精密增材制造3D打印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)由摩方精密自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業(yè)極少能實現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復雜工業(yè)樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。

二、高精密增材制造3D打印基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg